核徑跡綜合防偽標(biāo)識
2019-10-10
核徑跡綜合防偽標(biāo)識圖案由每平方厘米幾十萬到幾百萬個微米級微孔組成。微孔在光線下反射形成白色圖案。微孔孔徑很小，孔數(shù)很多，微孔在平面上按統(tǒng)計規(guī)律分布，孔道為圓柱形，具有良好的透氣、透水性能。通過模擬試驗，證明利用激光打孔或機械加工手段，無法制得和核微孔防偽膜類似的產(chǎn)品。
核徑跡綜合防偽標(biāo)識的制造過程是一個核物理、光電、生化等多個學(xué)科知識交織組合應(yīng)用的過程，需要強大的科技力量和昂貴的設(shè)備支持做保證，其技術(shù)難度高，工藝復(fù)雜性不是一般的商業(yè)企業(yè)可以涉足的。核徑跡綜合防偽標(biāo)識的特點：
1．核孔膜的制造需要尖端的核技術(shù)和昂貴的核設(shè)施，這些敏感的核設(shè)施都控制在的大型核技術(shù)研究單位里，都在國家核安全局的監(jiān)管之下，造假者很難具備。
2．一般核電站的反應(yīng)堆不能用來制造核徑跡防偽膜，只有特殊結(jié)構(gòu)的反應(yīng)堆才能用來制造核徑跡防偽標(biāo)識。
3. 核孔膜的制造需要高質(zhì)量的科技人員．高能物理技術(shù)和核技術(shù)，都是當(dāng)今世界的尖端技術(shù)，在世界上也只有少數(shù)國家能掌握。
4．孔在微觀上分布是不均勻的，按隨機規(guī)律分布．由重離子加速器生產(chǎn)的核徑跡防偽標(biāo)志膜，它的孔道基本是平行的，而用核反應(yīng)堆生產(chǎn)的核徑跡防偽標(biāo)志膜，它的孔道是有一定的散射角分布的，后者更不容易仿造。
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